-
1 chemical vapor deposition
(CVD)Химическое осаждение из паровой фазыМетод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.Англо-русский словарь по нанотехнологиям > chemical vapor deposition
-
2 chemical vapor deposition
(CVD)Химическое осаждение из паровой фазыМетод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.Russian-English dictionary of Nanotechnology > chemical vapor deposition
-
3 chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой фазы
Процесс в газовой среде, при котором осаждаются изолирующие или металлические пленки на подложку при повышенной температуре. Для ускорения химической реакции часто используется пониженное давление.
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > chemical vapor deposition
-
4 chemical vapor deposition
n (AmE) see chemical vapour deposition BrEEnglish-Spanish technical dictionary > chemical vapor deposition
-
5 chemical vapor deposition
химическое осаждение из газовой (паровой) фазы; химическое напыление в паровой фазе; нанесение покрытия методом разложения паровой фазыEnglish-Russian dictionary on nuclear energy > chemical vapor deposition
-
6 chemical vapor deposition
Большой англо-русский и русско-английский словарь > chemical vapor deposition
-
7 chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой (газовой) фазыАнгло-русский словарь технических терминов > chemical vapor deposition
-
8 chemical vapor deposition
Химическое покрытие паром.Процесс нанесения покрытия подобно газовой карбюризации и нитроцементации путем подачи газообразного реагента в камеру обработки, где он контактирует с поверхностью заготовки, выделяя материал для абсорбции или аккумулирования на рабочей поверхности. Оставшийся газ удаляется из камеры обработки, вместе с избыточным газом атмосферы.Англо-русский металлургический словарь > chemical vapor deposition
-
9 chemical vapor deposition
2) Электроника: химическое осаждение из газовой фазы3) Кристаллография: метод химического осаждения из газовой фазы4) Микроэлектроника: ХПО, химическое парофазное осаждение5) Полимеры: химическое осаждение в паровой фазе6) Автоматика: химическое осаждение из газовой среды, химическое осаждение из паровой или газовой среды, химическое осаждение из паровой среды7) Полупроводники: газофазное осаждение8) Макаров: химическое нанесение из газовой фазы, (CVD) химическое осаждение из паровой или газовой фазыУниверсальный англо-русский словарь > chemical vapor deposition
-
10 chemical vapor deposition
Polymers: CVDУниверсальный русско-английский словарь > chemical vapor deposition
-
11 chemical vapor deposition
English-german technical dictionary > chemical vapor deposition
-
12 chemical vapor deposition
хімічне осадження з парової фази (див. т-ж CVD). Ріст тонких твердих плівок на підкладці в результаті термохімічних реакцій в паровій фазіEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > chemical vapor deposition
-
13 chemical vapor deposition
English-russian dictionary of physics > chemical vapor deposition
-
14 chemical vapor deposition
= CVDEnglish-Russian electronics dictionary > chemical vapor deposition
-
15 chemical vapor deposition
The New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > chemical vapor deposition
-
16 chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой или газовой средыEnglish-Russian dictionary of mechanical engineering and automation > chemical vapor deposition
-
17 chemical vapor deposition
• CVD-kasvatus -
18 chemical vapor deposition
English-Russian dictionary of microelectronics > chemical vapor deposition
-
19 chemical vapor deposition
English-Russian solar energy dictionary > chemical vapor deposition
-
20 chemical vapor deposition
English-Russian dictionary of electronics > chemical vapor deposition
См. также в других словарях:
chemical vapor deposition — Chemical Vapor Deposition (CVD) Химическое осаждение из паровой фазы Метод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа носителя, такого как азот. Например,… … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.
Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in … Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
chemical vapor deposition — cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы, n pranc. déposition chimique en phase vapeur,… … Radioelektronikos terminų žodynas
Chemical vapor deposition of ruthenium — is a method to deposit thin layers of ruthenium on substrate by Chemical vapor deposition (CVD). A unique challenge arises in trying to grow impurity free films of a catalyst in Chemical vapor deposition (CVD). Ruthenium metal activates C H and C … Wikipedia
Chemical Vapor Deposition (journal) — Chemical Vapor Deposition Titre abrégé Chem. Vap. Deposition CVD Discipline … Wikipédia en Français
Chemical Vapor Deposition (journal) — Abbreviated title (ISO) Chem. Vap. Depo … Wikipedia
Chemical vapor deposition (CVD) — Chemical vapor deposition (CVD). См. Химическое покрытие паром. (Источник: «Металлы и сплавы. Справочник.» Под редакцией Ю.П. Солнцева; НПО Профессионал , НПО Мир и семья ; Санкт Петербург, 2003 г.) … Словарь металлургических терминов
Chemical vapor deposition of diamond — Colorless gem cut from diamond grown by chemical vapor deposition Chemical vapor deposition of diamond or CVD is a method of producing synthetic diamond by creating the circumstances necessary for carbon atoms in a gas to settle on a substrate in … Wikipedia
chemical vapor deposition oxide — cheminiu gariniu būdu nusodintas oksidas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition oxide vok. chemisches Gasphasenabscheidungsoxid, n rus. оксид, сформированный методом химического осаждения из паровой фазы,… … Radioelektronikos terminų žodynas
chemical vapor deposition silicon — cheminiu gariniu būdu nusodintas silicio sluoksnis statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition silicon vok. chemische Gasphasenabscheidungssiliziumschicht, f rus. слой кремния, полученный методом химического… … Radioelektronikos terminų žodynas